ÇöÀç ¿ì¸®°¡ ¸¸µå´Â Àåºñ¿¡¼ »ç¿ëµÇ´Â ¾àÇ°(°øÁ¤)¸íĪÀÎ SC1,SC2¶ó´Â ¸íĪÀº ¹«¾ùÀ» ¶æÇÏ´Â °ÍÀΰ¡?
ÇѹøÂëÀº »ý°¢Çغ» »ç¶÷µµ ÀÖÀ» °ÍÀÌ°í, ±×³É ±×·±°¡ º¸´Ù¶ó°í Áö³ª°£ »ç¶÷µµ ÀÖÀ» °ÍÀÌ´Ù.(º»ÀÎÀº ÀüÀÚ¿¡ ¼ÓÇÏ°Ú±º¿ä...^^)
º»·ÐÀ¸·Î µé¾î°¡ ¿À´ÃÀÇ ÁÖÁ¦ÀÎ SC1,SC2´Â ¹«¾ùÀÎÁö ¾Ë¾Æº¸ÀÚ.
-. SC1 (Standard Cleaning-1,APM) ; SC1 °øÁ¤...¾ö¹ÐÈ÷ ¸»ÇÏ¸é °øÁ¤ÀÌ ¸Â´Ù. ÀÌ °øÁ¤¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ¾àÇ°À» ±×³É SC1 ¼¼Á¤¿ë¾×À̶ó°í ºÒ¸®¾îÁú »ÓÀÌ´Ù. SC1 °øÁ¤Àº Wafer¼¼Á¤ ½Ã °¡Àå ±âº»ÀÌ µÇ´Â ¼¼Á¤ ¹æ¹ý Áß 1´Ü°è¸¦ Ç¥½ÃÇÏ´Â ¸»À̸ç, ¼¼Á¤¿¡ »ç¿ëµÇ´Â ¾àÇ°(SC1 ¼¼Á¤¿ë¾×)Àº NH4OH(¾Ï¸ð´Ï¾Æ), H2O2(°ú»êȼö¼Ò), H2O(¹°,¿©±â¼± DIW¼ø¼ö¸¦ ¸»ÇÑ´Ù)ÀÇ È¥ÇÕ ¿ë¾×À¸·Î È¥ÇÕºñ´Â 1:1:5 ºñÀ²ÀÇ È¥ÇÕ ¿ë¾×À» ¸»ÇÑ´Ù.
SC1 ¼¼Á¤¾×ÀÇ ¼¼Á¤ ¿ø¸®´Â ÷ºÎ ÀڷḦ Âü°íÇÏ±æ ¹Ù¶ó¸ç, ´ÙÀ½À¸·Î ³Ñ¾î°£´Ù...^^;
-. SC2 (Standard Cleaning-2, HPM) ; SC2 ... ÁüÀÛµé Çϼ̰ÚÁö¸¸...SC1 °øÁ¤ÀÇ ´ÙÀ½ ´Ü°èÀÌ´Ù. ¿ª½Ã SC2¼¼Á¤¾×µµ È¥ÇÕ¾×À¸·Î HCl(¿°»ê), H2O2(°ú»êȼö¼Ò), H2O(¹°,DIW ¼ø¼ö)ÀÇ È¥ÇÕ¾×À̸ç, È¥ÇÕºñ´Â ¿ª½Ã 1:1:5 ºñÀ²ÀÇ È¥ÇÕ ¿ë¾×ÀÌ´Ù.
SC1 ¼¼Á¤Àº Wafer Ç¥¸éÀÇ Particle°ú À¯±â ¿À¿°¹°À» °¡Àå È¿°úÀûÀ¸·Î Á¦°ÅÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸¸ç, SC2 ¼¼Á¤Àº õÀ̼º ±Ý¼Ó ¿À¿°¹° Á¦°Å¸¦ À§ÇØ »ç¿ëµÈ´Ù.
Áï, °á°úÀûÀ¸·Î SC1´Ü°è¿¡¼´Â ¹Ì¸³ÀÚ(Particle)°ú À¯±â¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇÏ°í, SC2 ´Ü°è¿¡¼´Â ±Ý¼Ó¹°ÁúÀ» Á¦°ÅÇØÁÖ´Â °øÁ¤À̶ó°í »ý°¢ÇϸéµÇ°Ú´Ù....
SC1°ú SC2ÀÇ ÀÚ¼¼ÇÑ ¼¼Á¤ È¿°ú ¹× ¼³¸íÀº ÷ºÎ ÀڷḦ Âü°í ¹Ù¶õ´Ù.
|